詳細(xì)介紹
隨著電子設(shè)備在我們的日常生活中越來越普遍,對于電子設(shè)備的需求量就會越來越高,而在生產(chǎn)電子設(shè)備時,電子元器件生產(chǎn)對于水質(zhì)的要求是越來越高,高純水設(shè)備是制取超純水的設(shè)備之一,那對于實驗室的用水可以用高純水設(shè)備制取嗎?
首先,高純水設(shè)備制取的水是可以用于實驗室的用水。
其次,高純水設(shè)備制取原理:
高純水設(shè)備是作為純水的二次除鹽設(shè)備,超純水在經(jīng)過反滲透設(shè)備處理后再到高純水設(shè)備進(jìn)行處理,宏森環(huán)保的超純水設(shè)備可制取電阻率高達(dá)10-18.2MΩ.CM。
因?qū)嶒炇覍τ谒|(zhì)的要求比較特殊,一般水處理系統(tǒng)包含水預(yù)處理系統(tǒng)、反滲透系統(tǒng)、混床系統(tǒng)、紫外消毒等,設(shè)備零件由電阻率、電導(dǎo)率在線監(jiān)側(cè)儀表、PLC控制、電動球閥、XL-400模塊5塊等組成。
因不同的實驗室其用水的水質(zhì)要求不一樣:
簡單的水處理工藝:預(yù)處理-反滲透-純化水箱-離子交換器-紫外燈-用水對象;
深度的水處理工藝:預(yù)處理→紫外線殺菌裝置→一級RO裝置→二級RO裝置→中間水箱→EDI裝置→拋光混床→-用水對象;
選擇高純水設(shè)備的優(yōu)勢在于:
1、設(shè)備無需因樹脂再生而中途停機(jī);
2、設(shè)備的產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定,水質(zhì)要求達(dá)標(biāo);
3、水質(zhì)的脫鹽率高達(dá)99%左右;
4、設(shè)備的操作簡單、日常維護(hù)即可,運行成分低;
5、因設(shè)備的占地面積小,節(jié)省空間又環(huán)保;